【光學EDI超純水設備】反滲透+EDI模塊技術

設備*稱：EDI超純水設備

   行業(yè)用途：工業(yè)清洗

   設備水量：12T（可按照客戶需求定制）

   生產水量：12T/小時

   工作方式：24小時連續(xù)工作

   控制方式：全自動控制

   進水溫度：10℃—35℃

   進水水質：自來水  地下水

   出水水質：純水（電導率≤0.1us/cm以內）

   純水效率：65%以上

   額定電壓：380V

   原水泵功率：4.4KW/小時

   高壓泵功率：15KW/小時

光學EDI超純水設備介紹

超純水在光學*域中的重要作用日益突出，超純水水質已成為影響光學器件產品質量、生產成品率及生產成本的重要因素之一，光學EDI超純水設備采用當反滲透+EDI模塊技術，前置預處理配套使用加反滲透處理，有效去除水中各種鹽份及雜質，然后運用EDI模塊進一步提升水質，使出水達到光學行業(yè)用水要求，超純水設備主要應用在光學*域的以下幾個方面：

1：清洗需用超純水，如果使用其它水中含有氯離子，電容器就會產生漏電。

2：在電子管生產中，電子管陰*需要涂碳酸鹽，如其中混入雜質，就會影響電子的發(fā)射， 進而影響電子管的放大性能及壽命，因此其配液要使用光學EDI超純水設備或電子工業(yè)用edi超純水設備生產的超純水。

3：在顯象管和陰*射線管生產中，其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質，是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成，其配制也需用超純水，如果水中含銅在8ppb以上，就會引起發(fā)光變色；含鐵在50ppb以上就會使發(fā)光變色、變 暗、閃光跳躍；含奇有機物膠體、微粒、細菌等，就會降低熒光層強度及其與玻殼的粘附力，并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品所以要用到光學EDI超純水設備生產出來的水。

4：顯象管熒光屏生產的 12個工序中，玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗等5個工序需使用超純水。晶顯示器的屏面需有超純水清洗和用超純水配液，如水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質，就會使液晶顯示電路發(fā)生故障，影響液晶屏質量不良品會增多。

所以光學行業(yè)對超純水水質要求也越來越高。而采用光學EDI超純水設備生產的超純水作為清洗用水的超聲波清洗設備是目前國際社會公認的*的清洗方式。

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